O836Si硅中氧分析仪

O836Si旨在满足硅产业对于分析的高灵敏度和高精度的要求。通过力可固态红外检测系统超高灵敏度与我们全新设计的进样系统和可编程脉冲炉相结合，O836Si提供准确和精确的氧含量的结果，比如硅片材料中氧的分析结果。高灵敏度和高精度也被应用到其他金属工业，比如电子工业中对高纯度铜中氧含量的测定需求。

特征

非色散固态红外检测器，高精度，高分辨率

• 可编程通过功率及电流控制的脉冲电极炉

• 分析精度及准确度精确至0.01ppm级别

• 低空白值，可翻转的样品加载入口，对于柱状硅样品也能保持测试结果的一致性

• 峰值查找功能可以方便地显示表面和基体氧化物峰值

• 仪器全新的气路设计需要更少的维修

• 氧含量输入采用ppma和ppmw格式